「産業基盤の創生」研究助成プログラム概要|キヤノン財団

「産業基盤の創生」研究助成プログラム概要|キヤノン財団

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研究助成プログラム「産業基盤の創生」

キヤノン財団は「人々の暮らしを支え、人間社会が将来も発展していく基盤である産業」の礎となる研究、人類の英知を深め永続的な繁栄を目指す研究に対して助成を行ないます。
第9回(2017年募集)の新規採択総額は、「産業基盤の創生」、「理想の追求」プログラムを合わせて2~3億円を予定しています。

助成金額 1件あたりの申請総額:上限1,500万円(助成件数:10数件程度)
助成期間 1年間または2年間
助成対象 日本国内の大学、大学院、高等専門学校、公的研究機関等に勤務する研究者
選考方法 キヤノン財団選考委員による一次選考(書類選考)および二次選考(面接)

日本の強い産業を更に強化する、あるいは新たな産業を興すことによって経済発展を促すような科学技術分野にあって、独創的、先駆的、萌芽的な研究を募集します。このような分野として、ICT・エレクトロニクス・ロボティクス、健康・医療・生命科学、バイオテクノロジー、環境・資源・エネルギー、マテリアル・デバイス・プロセス、サービスサイエンス(注)があげられます。また、社会的に複雑で難しい課題を解決するために、分野間の知的な触発や融合を図る挑戦的な新興・融合テーマなども対象として含めます。日本の経済発展には地域の活性化が不可欠です。キヤノン財団は特に地域の活性化に貢献する研究を重点的に支援します。地方に位置する大学等の研究を支援するとともに、中央に位置する大学等の研究であっても地域の活性化を目指す研究について支援します。(注)具体的な募集(研究)分野につきましては、別表「PDF」をご覧ください。